ATON-HT SA informuje, iż w dniu 17 kwietnia 2008r. zostały wysłane dwa zgłoszenia patentowe na: Rotującą plazmę łukową oraz na system MOS (Microwave Oxidation System). Obie technologie znajdą zastosowanie przy usuwaniu (dopalaniu) zanieczyszczeń w gazach wylotowych. Dodatkowo Rotująca plazma łukowa umożliwia destrukcję bardzo trwałych związków chemicznych zawartych w gazach. Spółka informuje, iż prognozy finansowe przedstawione przez Spółkę w dokumencie informacyjnym nie uwzględniają sprzedaży urządzeń, których dotyczy zgłoszenie patentowe. Podstawa prawna: Załącznik nr 1 do Uchwały nr 346/2007 Zarządu GPW w Warszawie S.A. z dnia 30 maja 2007 r. "Informacje bieżące i okresowe w Alternatywnym Systemie Obrotu", §3 ust. 1.